GIK Masque Brillant Centella (21)

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$10.99
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GIK

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Suitable for
Sensitive Skin
Benefits
Soothing
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Expédition calculée lors du paiement.
Détails
Le masque brillant GIK Centella offre une récupération intensive en seulement cinq minutes. Ce masque en tissu combine la centella asiatica, le céramide, la camomille et la levure bifide pour calmer les rougeurs, réduire les gonflements et soutenir les peaux à tendance acnéique. La formule puissante agit pour éclaircir votre teint tout en raffermissant et en resserrant pour un fini brillant et revitalisé. Parfait pour les routines de soins de la peau rapides qui ne transigent pas sur les résultats. Appliquez simplement, détendez-vous et révélez une peau visiblement rajeunie.
Avantages
Le masque brillant GIK Centella offre une récupération intensive en seulement cinq minutes. Ce masque en tissu combine la centella asiatica, le céramide, la camomille et la levure bifide pour calmer les rougeurs, réduire les gonflements et soutenir les peaux à tendance acnéique. La formule puissante agit pour éclaircir votre teint tout en raffermissant et en resserrant pour un fini brillant et revitalisé. Parfait pour les routines de soins de la peau rapides qui ne transigent pas sur les résultats. Appliquez simplement, détendez-vous et révélez une peau visiblement rajeunie.
Comment utiliser

Tenez l'extrémité du masque et tirez vers le haut. Étalez le masque sur votre visage en l'étirant, puis étirez-le vers la gauche et la droite pour l'ajuster. Retirez le masque après environ 5 minutes.
Ingrédients

Water/Aqua/Eau, Glycerin (Hydratant), Methylpropanediol (Solvant/Hydratation), Centella Asiatica Extract, Bifida Ferment Filtrate, Ceramide NP, Beta-Glucan, Camellia Sinensis, Leaf Extract, Sodium Hyaluronate, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Polysorbate 20, Carbomer, Arginine, Ethylhexylglycerin, Hydroxyethylcellulose, Sodium Polyacrylate, Allantoin, Trehalose, Butylene Glycol, 1,2-Hexanediol, Dipropylene Glycol, Tocopheryl Acetate (Vitamine E), Hydrogenated Lecithin, Phenoxyethanol, Fragrance/Parfum, Butylphenyl, Methylpropional

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